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什么是高純金屬？
什么是高純金屬？
處理99.9%以上的高純度金屬及合金材料，利用高純度濺射靶材的經驗和技術，還可以制造三元、四元合金等多維合金。我們還可以根據客戶的需要，提供亞微米級粉末、球形霧化粉末、錠狀等各種形狀。
此外，我們還可以使用常壓溶解技術制造堿金屬等特殊金屬類型的合金，請與我們聯(lián)系。
高純金屬單質
砷/磷
我們處理高純度 As 和 P 顆粒源作為離子注入源。它有被許多半導體制造商采用的記錄。
鎂片、棒等
在離子注入中，鎂源材料用于反轉摻雜劑的極性。我們支持各種尺寸。
高純磷
金屬丸
如需將各種合金加工成丸狀，請聯(lián)系我們。
各種合金
除了鎳、鐵等一般合金外，我們還致力于生產以堿金屬和堿土金屬為主要成分的高活性合金。
我們處理各種成分和粉末，例如鈉和鋰合金以及難以處理的金屬間化合物。
粉碎品
它具有低氧、高純度、均勻分散性、高流動性等特點，是適合合金塊體（燒結體）和熱噴涂原料的粉末。
我們可以滿足從細粉到數百微米粒徑的各種要求。
霧化粉
這是一種無需粉碎固體而直接從熔融金屬中獲得粉末的方法。由于它是快速冷卻和固化的，因此具有圓形和低偏析的特點。在我們公司，我們使用使用氣體霧化的制造方法。
該設備將真空感應加熱熔化的金屬用氣壓噴射并粉碎。
可以熔化熔點高達1500°C的金屬。
可以粉碎 10 公斤（鐵當量）的金屬。
特征
金屬通過電磁感應加熱在真空中熔化。
通過感應加熱，熔融金屬被攪拌并且可以獲得均勻的成分。
由于注入惰性氣體，因此可以生產活性粉末。
主要產品 Ag類、Ti類蠟料等 CIG 等 PVD薄膜源
我們支持各種尺寸、純度/氣體量/晶粒要求、背板制造、粘合加工和設備周邊零件制造。
濺射靶材
背板
激光燒蝕材料
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